金刚石,作为超宽带隙半导体,被公认为终极功率半导体,有可能彻底改变电力电子和射频电子。事实上,金刚石材料本身属于绝缘体,掺杂是实现金刚石电性能的重要途经。硼掺杂单晶金刚石兼具p型半导体的导电特性和金刚石自身优良的物理和化学性能,是制备高温、大功率半导体元器件的优选材料。凯发k8国际为了大力推动金刚石器件的应用和开发进程,推出硼掺杂单晶金刚石,响应广大客户在金刚石器件前沿研究的需求。
硼掺杂金刚石是一种新型的p型半导体材料,具有稳定性强、击穿场强高、空穴迁移率大的优势。凯发k8国际所生产的硼掺杂单晶金刚石可实现低浓度到高浓度的掺杂,低浓度的硼掺杂单晶金刚石具有良好的迁移率,适合作为半导体器件的主要材料;高浓度的硼掺杂单晶金刚石则具有电阻率低的特点,适合作为欧姆接触的电极。
检测结果
Detection result
凯发k8国际硼掺杂单晶金刚石拉曼特征峰FWHM:2.53cm-1
凯发k8国际硼掺杂单晶金刚石摇摆曲线半高宽
XRD:47.3arcsec
凯发k8国际硼掺杂单晶金刚石表面粗糙度:Ra 0.746 nm
凯发k8国际硼掺杂单晶金刚石迁移率达到1400 c㎡/(Vs),
载流子实现从14到19次方
凯发k8国际的掺硼单晶金刚石二次离子质谱(SIMS)检测结果显示,受主浓度在深度分布上均匀,激活率高(可达2.15%)